표피에서 히알루론산 발현
히알루론산은 진피 뿐만 아니라 표피에서도 세포외 기질의 중요한 성분이다. 히알루론산은 주로 표피의 기저층과 유극층에서 활발한 합성이 일어난다.
1) 히알루론산 합성
세포 형질막의 내측 표면에서 히알루론산 합성 효소(HA synthases, HAS)에 의해 합성된다. 히알루론산 합성 효소는 3가지 isozyme, 즉 HAS-1, HAS-2, HAS-3가 있다는 사실이 알려져 있다.
2) 표피에서 히알루론산의 발현을 조절하는 인자
(1) 사이토카인/성장 인자
표피의 히알루론산 합성 효소(HAS-1, -2, -3)는 여러가지 사이토카인과 성장 인자에 의해 조절된다는 것이 알려져 있다. 표피 성장 인자 (epidermal growth factor, EGF)나 각질형성세포 성장인자 (keratinocyte growth factor, KGF)는 히알루론산 합성 효소(HAS)를 증가시킨다. 특히 EGF는 HAS-2,-3의 증가와 함께 히알루론산의 증가와 그 수용체의 증가를 유도한다.
(2) 자외선
자외선, 특히 UVB는 각질형성세포에서 히알루론산 합성 효소(HA synthases, HAS)와 히알루론산 분해 효소 (hyaluronidase, HYAL)의 발현을 직접적으로 조절함으로서 표피에서 히알루론산의 발현을 조절하는 것으로 보고되었다.
(3) 표피 칼슘 기울기
표피의 칼슘 이온 기울기의 변화는 표피의 히알루론산과 히알루론산 수용체의 발현을 조절한다.
(내용참조 : 피부장벽학 P218)
